應用于：
半導體晶元光刻和高精度PCB板曝光等。以高壓短弧球形汞燈作為光源，采用了柱體蠅眼透鏡和高能力集光的橢球反射鏡及拋物反射鏡等光學鏡組形成面光源，實現波長365nm的紫外光（i線為主），光束垂直照射于半導體光刻機掩膜板進行芯片光曝光，光能利用率高，光強分布均勻。
性能參數：
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序號 |
項目 |
性能要求 |
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1 |
型號 |
HGUV-365-D6-400-AC |
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2 |
光源 |
高壓短弧汞燈 |
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3 |
照明尺寸 |
>160x160mm（可定制） |
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4 |
工作波長 |
主波長365nm |
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5 |
照明不均勻性 |
<3% |
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6 |
照明強度 |
>30 mW/cm2 @ 365nm |
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7 |
準直角（C Angle） |
<2.5° |
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8 |
傾斜角（D Angle） |
<0.3° |
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9 |
工作距 |
300-400mm |
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10 |
溫度/能量反饋 |
燈室溫度實時檢測/光路能量實時監測 |
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11 |
燈源調節 |
光源位置可電控調節，X向：±5mm，Y向：±5mm，Z向：10mm |
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12 |
冷卻方式 |
風冷或水冷 |
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